Nines Photovoltaics

Nines PV a développé une nouvelle technique de gravure sèche et texturation, sans aucun des inconvénients de systemes plasma sous vide (RIE).
L'ADE est effectué à pression atmosphérique (sans vide, sans pompes). C'est un procédé thermique (sans plasma), sans gaz a effet de serre (pas de gaz SF6 ou NF3), évitant toute taxe sur le CO2.
- gaz produit sur place à faible coût.
- CAPEX et OPEX inférieurs à tout système à vide
- débit plus élevé (6000 w/h).
- texture compatible avec les plaquette DIAMOND WIRE, et tout type de silicium (mono, multi, pseudo-mono, .etc ...)
- texture sur la face supérieure de la plaquette, face arrière parfaite pour un processus PERC. Aucun dommage ION Amélioration de l'efficacité de plus de + 0,3% ont déjà été démontrées et certifié par le CalLab Fraunhofer ISE.